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字體精細(xì),刻碼深度均勻,單次雕刻片數(shù)多,治具方案豐富,與MES系統(tǒng)無(wú)縫銜接.
應(yīng)用材料:Wafer(晶元)
主要工藝:激光雕刻
雕刻效果:▲字體精細(xì)▲刻碼深度均勻▲單次雕刻片數(shù)多▲治具方案豐富▲與MES系統(tǒng)無(wú)縫銜接.